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PVDコーティング処理

PVDコーティング

PVD法(physicalVaper Deposition:物理的蒸着法)によるコーティングには、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどがあります。

HCD法の特徴

HCD(ホローカソード)方式では、400℃~500℃の真空中で原料を溶融蒸発させた蒸着物質がイオン化して、同様にイオン化したガス体などと化合し、その生成物をグロー放電下の陰極に加速され、加工材料表面に蒸着させるものです。HCD-PVDコーティングで成膜した皮膜は、平滑性に優れており、切削工具の他、面粗度が求められる冷間成形用金型などにも適しています。

適用皮膜:TiN,TiCN,CrN

AIP法の特徴

AIP(アークイオンプレーティング)方式では、真空アーク放電を利用して、原料を蒸発させるもので、原料のイオン化率が高く、密着性に優れた皮膜を形成できます。また、蒸発源が溶解タイプではないため、合金膜の作製が可能です。一般的にAIP法では、マクロパーティクルによりHCD法に比べ面粗さが悪くなりますが、当社AIP装置はファインカソードを採用しており、他のAIP装置での皮膜より、高い面粗度を実現することが可能です。

適用皮膜:TiN,TiCN,TiAlN,CrN 他

当社では現在コーティング処理を行なっておりません。

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