PVD涂层处理
PVD涂层
使用PVD法（Physical Vapor Deposition：物理气相沉积法）进行的涂层处理包括真空蒸镀、溅镀、离子镀敷等方式。本公司采用HCD离子镀敷装置及AIP离子镀敷装置进行涂层处理。
HCD法的特点
HCD（空心阴极）方式是指在400℃～500℃的真空中将原料熔融蒸发而成的蒸镀物质离子化，与同样经离子化的气体化合，并使生成物在辉光放电下的阴极加速，蒸镀到加工材料的表面。通过HCD-PVD涂层处理形成的皮膜具有良好的平滑性，除了用于加工切削工具之外，也适用于对表面粗度有要求的冷间成型用模具等。
适用皮膜：TiN、TiCN、CrN
AIP法的特点
AIP（电弧离子镀）方式利用真空电弧放电使原料蒸发，因此原料的离子化比率较高，可以形成附着性很好的皮膜。此外，由于蒸发源是非溶解型的，因此也可以用于制作合金膜。一般而言，采用AIP法的话，由于宏观粒子的原因，与HCD法相比，表面较为粗糙。但是本公司的AIP装置采用了精密阴极，与采用其他AIP装置形成的皮膜相比，可实现较高的表面精度。
适用皮膜：TiN、TiCN、TiAlN、CrN 及其他
本公司的特点
HCD装置可以处理最大尺寸达450×600的产品，因而能应对较大的模具。
本公司的氮化设备能够通过气氛控制在不产生化合物的情况下进行氮化，因此，针对过去经氮化后去除化合物再进行涂层处理的产品，本公司也能提供一条龙应对服务。
厚木工厂真空部门及涂层部门已经取得医疗器械制造业许可（许可编号：14BZ290005），并经过了QMS符合性调查。
