PVD 코팅처리
PVD 코팅
PVD방식(Physical Vaper Deposition：물리적 증착법)에 의한 코팅에는 진공증착, 스퍼터링, 이온 도금 등이 있습니다. 당사는 HCD 이온 도금 장치 및 AIP 이온 도금 장치를 사용하여 코팅처리를 실시하고 있습니다.
HCD 방식의 특징
HCD(Hollow cathode) 방식은 400℃~500℃의 진공상태에서 원료를 용해 증발시킨 증착 물질을 이온화하고, 똑같이 이온화한 가스체 등과 화합시켜 그 생성물을 글로방전 음극에 가속화함으로 가공재료표면에 증착시키는 것입니다. HCD-PVD 코팅으로 생성되는 피막은 평활성이 뛰어나고 절삭공구 외에도 면조도가 요구되는 냉간 성형용 금형 등에도 적합합니다.
적용피막: TiN, TiCN, CrN
AIP 방식의 특징
AIP(아크 이온 도금)방식은 진공 아크 방전을 이용하여 원료를 증발시키는 것으로 원료의 이온화율이 높고 밀착성이 뛰어난 피막을 형성할 수 있습니다. 또한, 증발원이 용해식이 아니므로 합금막 제작이 가능합니다. 일반적으로 AIP 방식은 매크로 파티클이라 불리는 이온 덩어리의 발생으로 의해 HCD 방식에 비해 면조도가 낮아지지만, 당사의 AIP 장치는 파인 캐소드를 채용하여 다른 AIP 장치에서 생성하는 피막보다 높은 면조도의 실현이 가능합니다.
적용피막: TiN, TiCN, TiAlN, CrN 등
당사의 특징
HCD 장치에서는 최대 450×600 사이즈의 제품이 처리 가능하기 때문에 비교적 큰 사이즈의 금형에도 시행할 수 있습니다.
당사의 질화 설비는 공기제어를 통해 화합물층을 생성하지 않고 질화하는 것이 가능하므로, 종래의 질화 후에 화합물층을 제거하여 코팅하던 제품도 당사에서는 일관 작업이 가능합니다.
아쓰기 공장 진공부문 및 코팅부문은 의료기기 제조업허가 (허가번호: 14BZ290005)를 취득하여 QMS 적합성조사실적도 보유하고 있습니다.
